低溫等離子光化學(xué)工藝

低溫等離子光化學(xué)工藝

（1）煙氣經(jīng)過管道收集，在進(jìn)入煙氣治理設(shè)備之前先經(jīng)過管道過濾器粗濾，防止大顆粒物進(jìn)入處理設(shè)備，給設(shè)備造成影響。

（2）煙氣粗濾后進(jìn)入預(yù)處理模塊，預(yù)處理模塊采用油煙分離板構(gòu)造，將煙氣中夾雜的焦油、粉塵去除。 

（3）低溫等離子光化學(xué)工藝經(jīng)過預(yù)處理模塊除油煙后，煙氣進(jìn)入設(shè)備的核心處理區(qū)域----等離子凈化區(qū)，等離子凈化采用注入式等離子發(fā)生裝置。外界新鮮空氣經(jīng)低溫等離子發(fā)生裝置，得到等離子體送入等離子凈化區(qū)。在等離子凈化區(qū)，大部分煙氣分子被等離子體轟擊、氧化后變成無毒、無色、無味的氣體。 

（4）夾雜著部分低溫等離子體的煙氣到達(dá)光化學(xué)模塊。高強(qiáng)輻照?qǐng)鰧?duì)煙氣成份有破壞作用并產(chǎn)生活潑的次生氧化劑；煙氣成份在氧化劑和光的協(xié)同作用下持續(xù)發(fā)生氧化分解，終生成二氧化碳和水。 

（5）超微凈化模塊設(shè)有順流循環(huán)噴淋系統(tǒng)、錯(cuò)流循環(huán)噴淋系統(tǒng)、重力沉降、碰撞除塵、氣流均布裝置，可以去除微小粉塵，滿足排放標(biāo)準(zhǔn)。 

（6）整個(gè)煙氣治理設(shè)備中均設(shè)計(jì)有自清系統(tǒng)，利用循環(huán)水對(duì)系統(tǒng)進(jìn)行自動(dòng)清潔。在光化學(xué)區(qū)和超微凈化模塊所產(chǎn)生的廢水經(jīng)過濾系統(tǒng)的過濾后循環(huán)利用。 

（7）氣體在排放前，再經(jīng)過機(jī)械除霧區(qū)。在除霧區(qū)內(nèi)，氣體中夾帶的水霧在折流板功能段內(nèi)凝聚、滴落。

（8）除霧后，優(yōu)于國家排放標(biāo)準(zhǔn)的氣體通過引風(fēng)機(jī)排入大氣。

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化學(xué)工藝